书目详细信息
： 集成电路制造技术:原理与工艺
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-121-45369-4:CNY79.90 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 集成电路制造技术/.田丽编著 |
| 版本项： | 3版 |
| 出版发行项： | 北京:,电子工业出版社:,2010 |
| 载体形态项： | 10,322页:;+图:;+26cm |
| 一般附注： | 工业和信息化部“十四五”规划教材等 工信学术出版基金 |
| 提要文摘： | 本书共6个单元14章。第一单元介绍硅衬底，介绍单晶硅的结构特点，单晶硅锭的拉制及硅片(包含体硅片和外延硅片)的制造工艺及相关理论。第二~五单元介绍硅基芯片制造基本单项工艺(氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试)的原理、方法、设备，以及所依托的技术基础及发展趋势。第六单元介绍集成电路制造工艺监控与生产实习实验；附录A介绍工艺模拟和SUPREM软件。 |
| 题名主题： | 集成电路工艺 教材 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 田丽 编著 |
| 记录来源： | CN WXLS 20231120 |